用磁控溅射方法制备了低粘结TaO与低摩擦系数WS复合的TiAlTaN/TaO/WS复合涂层。该涂层由Ti过渡层、TiAlTaN耐磨层、TaO低粘结层和低摩擦系数WS层组成。涂层复合使表面形貌从多边形变为球形，但是不影响原涂层的相组成和柱状晶组织。复合涂层使原涂层的硬度和弹性模量降低，但是使摩擦系数从0.648降低到0.102。低摩擦系数复合涂层的润滑性能使切削钛合金的效率提高了84%，比商用涂层提高33%。

采用Mg-Bi化合物靶和金属Mg靶用磁控溅射技术制备富Mg的Mg3Bi2薄膜并表征其相组成、表面和截面形貌，研究了薄膜的热电性能。结果表明，这种富Mg薄膜由Mg3Bi2相和金属Mg相组成且Mg3Bi2结构中有Mg空位，具有p型导电特征,Seebeck系数为正值。随着温度的提高，富Mg薄膜的电阻率先略微提高而后显著降低；随着Mg含量的提高富Mg薄膜的电阻率逐渐提高，但是Mg含量达到一定数值后电阻率又急剧下降。Mg含量较低时Seebeck系数随着温度的提高开始时略下降随后很快增大，达到最大值后又很快降低；Mg含量较高时随着温度的提高Seebeck系数开始时略增大，随后缓慢下降。除了Mg含量较低的样品，在温度相同的条件下随着Mg含量的提高薄膜的Seebeck系数值增大，但是Mg含量过高时Seebeck系数值迅速降低，达到普通金属材料Seebeck系数的数量级。这种富Mg薄膜的功率因子，受Seebeck系数和电阻率制约。