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单晶槽式制绒设备

单晶槽式制绒设备

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规格/型号:SC-CSZ12000F-16G
品牌:捷佳伟创
应用领域:材料制备
产地:广东 - 深圳
厂家/供应商:深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司
咨询电话::0755-81449696(请说明信息源自“中冶有色网”)
更新时间:2025-04-01
级别:待认证

单晶槽式制绒设备说明介绍

单晶槽式制绒设备

设备名称 Equipment Name


单晶槽式制绒设备 Batch-type Mono-crystalline Texturing Equipment


设备型号 Equipment Model


SC-CSZ12000F-16G


设备用途 Equipment Application


主要对单晶硅太阳能电池用硅片进行绒面腐蚀和清洗处理。

Used for texturing& cleaning of mono crystalline wafers.


工艺流程 Process Flow


去损伤→预清洗→单晶制绒→后清洗或O3清洗→酸洗→预脱水→烘干(供参考)

Saw damage removal→Pre-cleaning→Mono-texturing→Post-cleaning/O3 cleaning→Acid cleaning→Hot water drying→Drying (for reference only)


技术特点 Features


1、产能:600片/批, 12000片/小时——210硅片(100片花篮);720片/批,15000片/小时——182硅片(120片花篮)。

Throughput:600pcs/batch,12000pcs/h——210 wafer(100pcs cassette),720pcs/batch,15000pcs/h——182 wafer(120pcs cassette).

2、工艺槽循环量可调。

Process bath circulation volume adjustable.

3、制绒金字塔均匀,刻蚀深度可调。

Uniform pyramids texture, etch depth adjustable.

4、支持最薄120μm硅片。

Wafer thickness handling capability up to 120μm.

5、洁净干燥区域,自洁净干燥系统。

With clean dry area and self-clean dry system.

6、低H2O2消耗。

Low H2O2 consumption.

7、快速换液,在线换液。

Quick inline bath change.

8、支持MES、RFID及选配在线称重功能。

Available with MES, RFID system, inline weight testing optional.


设备参数 Parameters


型号 Model:SC-CSZ12000F-16G

硅片尺寸(mm)Wafer Size:18X/ 210/ 230 可选 optional

Uptime:≥98%

破片率 Breakage Rate:≤0.01%

外形尺寸(mm)Footprint:26420(L) X 2880(W) X 2523(H)

清洗篮装载能力Loading Capacity:6个花篮/批

最大提升重量Max. Lifting Weight:100kg

产能Throughput:330000片/天(182硅片)

清洗节拍Cycle Time:2.85min/carrier(用户自定,可调User-defined,adjustable)

功率消耗Power Consumption:240KW+144KW+144KW(热水机Heater )

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