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高真空双靶磁控溅射仪

高真空双靶磁控溅射仪

176
规格/型号：JKZC-STC600
品牌：精科智创
应用领域：加工设备
产地：北京 - 北京
厂家/供应商：北京精科智创科技发展有限公司
咨询电话:：15810615463（请说明信息源自“中冶有色网”）
更新时间：2025-06-09
级别：待认证

高真空双靶磁控溅射仪说明介绍

JKZC-STC600高真空双靶磁控溅射仪

JKZC-STC600高真空双靶磁控溅射仪


产品分类：材料制样设备

关键词：双靶，高真空，直流，射频，高温JKZC-STC600高真空双靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。

产品详情

关键词：双靶，高真空，直流，射频，高温

JKZC-STC600高真空双靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。JKZC-STC600双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪和两个电源，一个射频电源用于非导电材料的溅射镀膜，一个直流电源用于导电材料的溅射镀膜，可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比，且具有体积小便于操作的优点，且可使用的材料范围广，是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。

主要特点：

·配置两个靶枪，一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。可制备多种薄膜，应用广泛。体积小，操作简便。

技术参数：

JKZC-STC600高真空双靶磁控溅射仪

JKZC-STC600高真空双靶磁控溅射仪

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高真空双靶磁控溅射仪 双靶磁控溅射仪
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北京精科智创科技发展有限公司
企业认证：
  
所属领域：
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15810615463
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