工作原理:
基于X射线衰减成像:设备通过微型X射线管(靶材可选钨或钼)发射高能X射线,穿透被测物体后,因材料密度与厚度差异导致射线强度衰减;高分辨率平板探测器(如CMOS或非晶硅)接收衰减后的X射线信号,转换为数字图像,经图像处理算法(如滤波、增强、三维重建)生成高对比度二维或三维影像,最小可检测缺陷尺寸≤5μm,空间分辨率≥3LP/mm。
应用范围:
适用于多行业产品的内部质量检测,包括电子元器件(如BGA芯片焊点空洞分析、PCB线路板层间短路排查)、汽车零部件(如发动机缸体铸造气孔检测、锂电池电芯极片对齐度验证)、半导体封装(如晶圆键合缺陷筛查、引线框架虚焊识别)、医疗器械(如骨科植入物结构完整性评估、注射器组装密封性检查),以及3D打印金属件的内部致密度分析。
产品技术参数:
X射线源:微型X射线管(W/Mo靶),管电压10-160kV可调,管电流10-1000μA
探测器:CMOS平板探测器(2048×2048像素)或非晶硅探测器(3072×3072像素),像素尺寸≤50μm
成像能力:二维透视成像、CT三维重建(可选),放大倍率1-1000倍
检测精度:缺陷识别能力≤5μm,密度分辨率≤1%,空间分辨率≥3LP/mm
检测速度:二维成像≤2秒/帧,CT重建≤5分钟(视样品复杂度)
安全防护:铅玻璃观察窗、多重联锁装置、辐射剂量率≤1μSv/h(符合GB 18871标准)
数据接口:支持DICOM、BMP、TIFF等格式导出,兼容MES与SPC系统
设备尺寸:开放式机型800mm×600mm×1500mm,封闭式机型1200mm×1000mm×1800mm
电源要求:AC 220V±10%,50Hz,功耗≤2kW
产品特点:
高精度成像:采用动态范围≥16bit的探测器,配合多能谱分析技术,提升缺陷对比度。
智能分析软件:内置AI缺陷识别算法,可自动标记气泡、裂纹等异常,生成检测报告。
灵活操作模式:支持手动编程与自动检测流程,适配不同样品尺寸与检测需求。
低剂量辐射:脉冲式X射线发射与智能曝光控制,降低操作人员辐射暴露风险。
模块化扩展:可选配倾斜旋转台、多轴机械臂,实现复杂样品的全方位检测。