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半导体用超高纯金属溅射靶材

半导体用超高纯金属溅射靶材

2798
规格/型号:半导体用超高纯金属溅射靶材
品牌:暂无
应用领域:暂无
产地:浙江 - 宁波
咨询电话::暂无(请说明信息源自“中冶有色技术网”)
更新时间:2021-11-09
级别:已认证

半导体用超高纯金属溅射靶材说明介绍

简介 高纯铝以及铝合金靶材: 1、产品包括:Al、Al30ppmSi,、Al0.5Si、Al0.75Si、Al0.8Si、Al1Si、Al0.5Cu、AlSiCu等; 2、纯度为4N~5N5; 3、不同的晶粒晶向满足客户的不同溅射需求; 4、能够和客户一起开发特制的各种类型长寿命靶材。 高纯钛靶材以及钛环: 1、产品包括:4N5钛、5N钛、低氧钛等; 2、不同的晶粒晶向满足客户的不同溅射需求; 3、能够为客户提供不同类型特制的长寿命靶材和环件。 高纯铜、铜合金靶材以及铜环、铜阳极: 1、产品包括:4N铜、4N5铜、5N铜、6N铜以及铜铝、铜锰等合金靶材、纯铜以及CuP阳极材料、纯铜
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