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用于碲镉汞器件增透膜层生长的装置

898   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:59:26
本实用新型公开了一种用于碲镉汞器件增透膜层生长的装置,所述装置包括:靶材,安装在增透膜层生长腔室的底部,并通过匹配箱与射频电源连接;样品托,安装在增透膜层生长腔室的顶部,所述样品托上设置有具有样品槽的内嵌式样品盘,所述样品槽外部设置有压片,所述压片中间设置有孔,孔的形状、大小与碲镉汞器件需要镀膜的区域一致,且所述压片上的孔与所述靶材上下对正。本实用新型通过上述装置对碲镉汞器件进行增透膜层生长,由于设置有压片,在需要保护的读出电路没有生长上增透膜层,保证了器件的电学连通,并且没有对探测器器件产生附加损伤,达到了良好的无损伤生长目的。
声明：
“用于碲镉汞器件增透膜层生长的装置” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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