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无机铯铅卤钙钛矿磁控溅射靶材制备与回收和薄膜生长技术

657   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 14:28:32
本发明涉及光伏器件制作工艺领域，具体为一种无机铯铅卤钙钛矿磁控溅射靶材制备与回收和薄膜生长技术。常规的溶液法制备无机钙钛矿薄膜，由于过快的液相反应不易控制，导致钙钛矿薄膜出现不均匀、多孔洞的现象，进而影响薄膜的质量和性能。本发明设计了一种无机钙钛矿磁控溅射靶材的制备与回收技术，并采用该靶材在衬底上溅射生长薄膜。该技术克服了溶液法生长薄膜多孔洞的缺点，生长出均匀分布、形貌紧凑、低缺陷密度、高相纯度的无机钙钛矿薄膜，其优化的性能和稳定的技术为钙钛矿薄膜的商业化生产应用提供了新思路。
声明：
“无机铯铅卤钙钛矿磁控溅射靶材制备与回收和薄膜生长技术” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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