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纳米颗粒和薄膜UHV沉积系统

纳米颗粒和薄膜UHV沉积系统

353
规格/型号：暂无
品牌：科睿设备
应用领域：加工设备
产地：上海 - 上海
厂家/供应商：科睿设备有限公司
咨询电话:：852-2710-8200（请说明信息源自“中冶有色网”）
更新时间：2025-06-15
级别：待认证

纳米颗粒和薄膜UHV沉积系统说明介绍

纳米颗粒和薄膜UHV沉积系统

纳米颗粒和薄膜UHV沉积系统


纳米颗粒和薄膜UHV沉积系统是一种超高真空 PVD 系统，能够产生纳米颗粒和薄膜，非常适合工业和学术研究。 服务于广泛的应用，包括催化、光子学、储能、传感器和生命科学。该UHV 沉积系统可以与分析工具集成，为您的研究需求提供完全定制的解决方案。

主要特点:

通过结合纳米颗粒和薄膜生成复杂材料

使用 NL-UHV 的无烃纳米颗粒

UHV 系统，带负载锁定、烘烤和泵送升级选项

涡轮/干式前级泵送组合

共聚焦端口几何结构，最多可容纳 5 个源

与第三方来源兼容

具有旋转、加热和偏置选项的基材涂层

联锁装置，保护人员和设备

全自动和配方驱动的软件

基本系统配置:

沉积室的大小 : 450 毫米

基础压力 :< 5e– 7托

取向 : 溅射

示例表 : 4 英寸晶圆，20rpm 旋转，Z 轴偏移，用于样品装载/卸载

泵 : 300 升/秒涡轮增压器，7.2 米3/hr 干式前级泵

阀 : 手动阀、百叶窗和线性驱动器

控制软件 : 配方驱动过程、电源控制和数据记录

原位监测 : 用于过程监控和终点检测的石英晶体微量天平

源端口 : 多达 5 个沉积源2 个共聚焦 CF150 和 3 个共聚焦 CF100 源端口

源类型 : 纳米颗粒源 /磁控溅射源、微型电子束蒸发器、热舟源、K 池、离子源、射频原子源

选项:

5e– 9Torr 极限压力（带烘烤选项）

样品台：

– 用于纳米粒子加速的直流偏压

– 用于样品表面清洁的射频偏置

– 加热至 800°C

泵送 – 700l/s 涡轮增压器

带传输臂的单独泵送负载锁

系统烘焙

阀门、百叶窗和线性驱动器的自动化选项

涡轮前方的可调节挡板，以增加动态压力范围，以便在较低气体流量下进行溅射

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纳米颗粒和薄膜UHV沉积系统 加工设备
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