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工作原理
BEM-51 采用无限远色差校正光学系统，通过长距平场消色差物镜与大视野平场目镜组合，将样品表面反射的光线聚焦至成像系统。其透反射双光路设计支持明场、暗场、偏光等多种观察模式，配合柯勒照明系统，可均匀照亮样品表面，消除杂散光干扰。设备搭载高精度电动载物台，支持 X/Y 轴向精准移动，结合智能对焦算法，可自动识别样品表面起伏，实现多区域快速拼接成像。
应用范围
该设备适用于金属材料晶粒度分析、非金属夹杂物评级、涂层厚度测量及材料相变研究等场景。典型应用包括：汽车零部件热处理质量验证、航空航天合金材料微观缺陷检测、电子元器件焊接层均匀性评估，以及地质样品矿物成分分析等。其非破坏性测量方式尤其适合精密模具、半导体晶圆等高价值样品的无损检测。
技术参数
光学系统：无限远色差校正，支持 50X-1000X 放大倍率
物镜配置：5X、10X、20X、50X、100X（干式）长距平场消色差物镜
载物台：电动双层机械载物台，移动范围 100mm×80mm，定位精度 ≤0.1μm
照明系统：6V30W LED 冷光源，亮度可调，支持透反射同步照明
图像处理：内置 500 万像素 CCD 摄像头，支持 DIC 微分干涉对比成像
产品特点
高精度成像：采用德国进口物镜与纳米级光栅尺，确保图像边缘清晰无畸变。
智能化操作：配备 10 寸触摸屏与专用分析软件，支持一键自动拼图、晶粒度统计及报告生成。
模块化设计：可扩展激光共聚焦、拉曼光谱等附件，满足多元化检测需求。
稳定耐用：全金属机身结构配合防震台设计，适应实验室长期高强度使用。
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云南 - 昆明
2025年09月25日 ~ 27日
