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工作原理
FPNAN-NV采用多模态光学探测技术：白光干涉模式通过分析反射光干涉条纹变化获取亚纳米级垂直分辨率；共聚焦模式利用点扫描与针孔滤波实现横向高精度定位；激光扫描模式则通过三角测距原理完成大范围快速形貌捕捉。设备内置自适应算法，可自动切换测量模式并融合多源数据，生成高保真三维点云图像。
应用范围
广泛应用于半导体行业（晶圆表面缺陷检测、芯片封装平整度分析）、材料科学（薄膜厚度测量、表面粗糙度表征）、精密机械（零件磨损评估、微纳结构加工质量检测）、生物医学（组织表面形貌分析、植入物适配性验证）及光学元件（透镜面型检测、镀膜层均匀性评估）等领域，满足科研与工业场景的多尺度检测需求。
产品技术参数
测量范围：0.1nm-10mm（垂直方向）；横向分辨率：0.1μm；垂直分辨率：0.01nm（白光干涉模式）；扫描速度：≥100μm/s；测量模式：白光干涉/共聚焦/激光扫描；数据接口：USB3.0/GigE；工作温度：15-35℃；设备尺寸：450×320×280mm；重量：≤25kg。
产品特点
多模态融合，支持从纳米到毫米级跨尺度测量；
非接触式检测，避免样品损伤；
智能化软件支持自动缺陷识别与三维形貌重建；
高动态范围与低噪声设计，适应复杂表面检测；
模块化设计，兼容明场/暗场/偏振成像扩展。
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云南 - 昆明
2025年09月25日 ~ 27日
