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工作原理
设备通过钨丝电子枪发射高能电子束，经电磁透镜聚焦后扫描样品表面。电子与样品相互作用产生二次电子、背散射电子等信号，探测器捕获信号并转化为图像。EM-40采用低真空模式（支持10-300Pa），可直接观察非导电样品（如塑料、生物组织），结合专用软件实现三维形貌重建与元素定性分析。
应用范围
该设备广泛应用于半导体行业芯片缺陷检测（如晶圆污染、线路断点）、生物医学领域细胞与组织超微结构观察（如肿瘤细胞形态）、地质勘探中矿物晶体分析（如岩石成分鉴定），以及工业检测中金属材料断裂面分析（如疲劳裂纹）。典型应用包括材料失效分析、新产品研发阶段的形貌特征验证，覆盖从实验室到生产线的全流程检测需求。
产品技术参数
分辨率：3nm（30kV，二次电子成像）
加速电压：0.3-30kV（连续可调）
放大倍数：20×-100,000×（数字变焦支持）
样品室：直径≤50mm，高度≤30mm（支持多角度倾斜）
电子源：钨丝枪（寿命≥1000小时）
真空系统：低真空模式（10-300Pa），无需喷金处理
图像采集：16bit高清CCD，支持实时视频输出
电源：220V±10%，50/60Hz，功率≤800W
尺寸：600×500×700mm（主机），重量≈80kg
软件功能：自动对焦、三维重建、EDS接口（可选配），支持TIFF/JPEG格式输出与多语言界面（中/英/韩）。
产品特点
高分辨率与低真空兼容：3nm分辨率结合低真空模式，可直接观察非导电样品，减少前处理步骤；支持潮湿或含油样品检测。
紧凑设计与易用性：台式结构占用空间小（桌面面积≤0.5㎡），配备触控式界面与一键式操作，降低使用门槛；内置教学视频与自动诊断功能。
多功能扩展与智能化：可选配EDS能谱仪实现元素分析，支持三维形貌重建与粒度统计；软件集成AI图像识别，自动标记关键特征。
耐用性与维护成本：钨丝枪寿命长，真空系统采用无油设计，减少维护频率；核心部件提供2年质保，降低长期使用成本。
合规性与安全性：符合CE与RoHS标准，配备紧急停机保护与辐射防护装置，确保实验室操作安全。
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云南 - 昆明
2025年09月25日 ~ 27日
