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工作原理
XD30M采用无限远色差校正光学系统（CSIS），通过物镜将光线聚焦于样品表面，反射光线经无限远光路设计消除色差，确保成像清晰锐利。倒置结构使光源从下方照射，特别适合观察金属、陶瓷等抛光样品表面，无需制作薄片即可直接分析组织形态。
应用范围
该显微镜广泛应用于金属材料检测、半导体制造及教学科研领域。在工业领域，可用于钢铁、电子、汽车零部件等行业的金相分析，检测晶粒度、非金属夹杂物及表面缺陷；在科研领域，支持材料科学、矿物学及高分子材料研究，实现明场、偏光等多种观察模式。
技术参数
光学系统：无限远色差校正光学系统，支持50X-1500X放大倍率
目镜：高眼点大视野平场目镜PL10X/22mm，视度可调节±5屈光度
物镜：5X-100X无限远平场消色差超长工作距物镜，50X物镜工作距达7.8mm，100X物镜达2.1mm
载物台：160mm×250mm金属平台，可选配移动尺及延伸板，行程120mm×78mm
照明系统：反射式柯拉照明器，12V50W进口卤素灯，自适应90V-240V宽电压
调焦机构：低手位粗微调同轴设计，粗调每转行程38mm，微调精度0.002mm
产品特点
模块化设计：支持偏光、明场观察模式切换，可扩展摄影摄像功能
人性化操作：45°倾斜铰链式三目观察筒，瞳距调节范围54-75mm，适配不同用户需求
高稳定性结构：全金属机身搭配防震设计，适应实验室及生产线复杂环境
智能照明控制：光阑连续可调，亮度均匀性高，有效延长光源使用寿命
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云南 - 昆明
2025年09月25日 ~ 27日
