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多晶硅薄膜晶体管的制备方法

1057   编辑:管理员   来源:北方有色网  
2023-03-19 08:23:04
本发明提供一种掩膜金属诱导晶化的多晶硅薄膜晶体管的制备方法,包括:连续横向区域的多晶硅薄膜去除硅氧化物、纳米二氧化硅层和化学氧化层,以Freckle刻蚀液湿刻成有源硅岛,通过低压化学气相沉的方法在425℃下沉积50纳米厚的低温氧化物作为栅极绝缘层;形成栅电极,将硼以4×1015/cm2计量离子注入源极和漏极;以LPCVD的方法沉积500nm的氧化物作为绝缘层并在栅极、源极和漏极区域上开电极接触孔;溅射700纳米厚的含1%Si的光刻形成测试电极,在氢气与氮气的合成气体中420℃下烧结30分钟以形成良好的欧姆接触,同时活化掺杂物。
声明:
“多晶硅薄膜晶体管的制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
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