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纯钨或钼薄壁器件的制备方法

1019   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 14:35:08
一种纯钨或钼薄壁器件的制备方法，属于粉末冶金技术领域。工艺步骤为：以紫铜材质制作所需器件的模板，其表面粗糙度Ra低于6.3并保持表面清洁干燥；将模板放入气相沉积室内，以六羰基钨或六羰基钼为反应有机源，高纯氢气或氮气为稀释气，在沉积室压力500～10000Pa、沉积温度280～420℃条件下在模板上进行热解离气相沉积，沉积过程中根据沉积壁厚要求每沉积2～4小时进行一次退火。沉积完成后，关闭有机源阀门，继续通入稀释气保持器件降至室温。将模板表面沉积钨或钼的器件采用硝酸腐蚀去除紫铜模板基体，得到壁厚0.1～3mm的纯钨或钼薄壁器件。优点在于，沉积温度低，沉积速度快，沉积膜纯度高，膜层致密，膜表面的光洁度好，加工流程短，无污染，无腐蚀。
声明：
“纯钨或钼薄壁器件的制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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