本发明涉及气相沉技术领域，特别涉及一种碳化硅化学气相沉积炉的进气装置。
背景技术：
化学气相沉积(chemicalvapourdeposition，cvd)常用来生产各种高纯固体材料。化学气相沉积碳化硅是通过含有硅、碳元素的小分子前驱物在沉积室内一定条件下分解、反应生成的薄膜材料。一甲基三氯硅烷(mts)是一种工业上常用的化学气相沉积碳化硅液态前驱物，反应方程式如下：ch3sicl3→sic+3hcl，在制备过程中通常会用到氢气和氩气，其中氢气参与中间反应过程，作为反应气体使用，氩气经常作为稀释气体使用。
目前，存在若干种办法向沉积室供应mts蒸汽：第一种是鼓泡法，鼓泡法是将载气(氢气)通到mts前驱物中利用载气产生的气泡将前驱物蒸汽带到沉积室内；第一种方法的优点是载气的比热容大，在输送前驱物的过程中前驱物不容易液化；而该方法的缺点：产生的混合蒸汽包含载气和前驱物两种成分，需要根据鼓泡室的温度和压力来确定二者的比例，鼓泡容器的形状也会影响二者的比例；而且随着前驱物的消耗，鼓泡容器内的空间也会发生变化，前驱物的蒸发速率会有一定的变化，导致载气和前驱物的比例发生变化，在实践中很难精确控制载气和前驱物的比例。第二种是通过加热蒸发mts前驱物，并将所得蒸气供应到沉积室，其中通过质量流量控制器(mfc)控制流量；第二种方法优点是可以在单位时间产生大量的前驱体蒸汽，也便于调节mts与氢气的比例；缺点是加热的前驱体蒸汽在输送过程中容易液化堵塞管道。第三种是将mts以液体形式供应至蒸发室，其中通过液体质量流量控制器(lmfc)控制流量，然后mts在使用时由容器蒸发得到蒸气供给到沉积室。第三种方法可以精确控制mts的流量，但是在蒸发室内产生的蒸汽容易形成悬浮小液滴，因此供给到沉积室内的mts气体量小于供给的mts液体量。上述几种方法在实践中也容易产生气溶胶(悬浮的小液滴)将mts中的杂质带入沉积室内影响碳化硅产品的纯度。
技术实现要素：
本发明提供了一种碳化硅化学气相沉积炉的进气装置，其目的是为了解决传统供气方法气体比例不确定、气体容易冷凝堵塞管道、气体容易产生气凝胶影响碳化硅产品质量等问题。
为了达到上述目的，本发明的实施例提供了一种碳化硅化学气相沉积炉的进气装置，包括：储液室、汽化室、混合室和稀释室，所述储液室设置有一注液口，所述混合室设置有一混合管道，所述稀释室设置
声明：
“碳化硅化学气相沉积炉的进气装置的制作方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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编辑：中冶有色网
来源：湖南铠欣新材料科技有限公司
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2025年05月16日 ~ 18日 
