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半导体深孔刻蚀后的工艺监控方法

702   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:58:57
本发明提供了一种半导体深孔刻蚀后的工艺监控方法，包括以下步骤：a.提供具有预定形状和尺寸的测试结构；b.测量所述测试结构的质量，得到容差范围；c.测量待监控晶圆的质量，并与所述容差范围进行比较，若待监控晶圆的质量值在容差范围内，则认为深孔的刻蚀深度已经达到要求；若不在容差范围内，则深孔的刻蚀深度没有达到工艺要求，需要对刻蚀工艺条件进行调整。本发明采用无损伤的高精度质量量测方法，通过测量硅深孔硅刻蚀后的质量，来间接表征硅深孔刻蚀深度是否达到工艺要求。晶圆整片测量，不需要特定测试结构，方便快捷；且反馈结果直观，快速，准确，且对晶圆无损伤。
声明：
“半导体深孔刻蚀后的工艺监控方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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