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在金相实验室，金相试样的制备过程中，试样的预磨、抛光研磨是多道必不可少的程序，本机AMP-2P的集污盘和罩采用PPC材料一体成形，是具有外形新颖美观的最新产品。本机是采用单片机控制的金相试样磨抛机，磨盘100RPM-1000RPM无级调速，数码管显示磨盘转速，电机为直流无刷电机，电机无需更换电刷，使用时间长，机台烤漆无毒性, 牢固的大型支撑底盘设计确保了精密的回转平衡度，强大的电机扭力带来强大的动力, 带来高效的研磨抛光体验，主轴防漏设计, 确保了几乎不会损坏的轴承, 超级静音的设计带来良好的使用体验。
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金相试样的制备过程中，试样的预磨、抛光研磨是多道必不可少的程序，本机DMP-2P的集污盘和罩采用金属钣金材料一体成形，是具有外形新颖美观的最新产品。
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AP-2A型金相试样抛光机是一款经典且高效的抛光设备，专为金相试样制备中的抛光工序设计。它能够将经过磨光的试样抛光至光亮如镜的表面，适用于多种材料。该设备传动平稳，噪音低，操作和维护方便，支持双人同时操作，适合厂矿企业、大专院校和科研单位的金相实验室使用。其抛盘直径为φ220mm，标准转速为1400r/min（可定制900r/min），电源为220V、50Hz（可定制380V、50Hz），外形尺寸为730×400×340mm，净重35Kg。
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产品介绍：超声波焊接机(智能型)是应用于金属箔材进行层叠焊接的设备。可应用于锂离子电池、镍氢电池、镍铬电池以及各种二次电池焊接工艺。设备电源选用优质电子元器件，功率稳定，焊接一致性好。整体设备设计紧凑，HMI实现参数调节，方便易用。根据焊接材料，层数等物料参数，可选择不同功率的焊接机。如：800W,2KW,4KW,6KW,8KW等。
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Q-80Z切割机是由机身、电控箱、切割室、电机冷却系统、切割砂轮片等部件组成。本切割机不但可以切割直径为80mm以内的圆形工件，还可以切割高100mm，深200mm以内的长方形试样。该机通过冷却系统对试样进行冷却，以防止试样在切割过程中过热而烧坏组织。本机还可以因切割不同的试样而对切割速度进行设定，从而提高切割试样的质量。该机分手动和自动切割。大容积的切割完，更便于切割者使用，是大专院校、工厂企业金相试验必备的制样设备之一。
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LFT1700C系列高温真空管式炉如图所示，集控制系统与炉膛为一体。炉衬使用1800型真空成型高纯氧化铝聚轻材料，加热元件为优质硅钼棒。高纯氧化铝管横穿于炉体中间作为炉膛，炉管两端用不锈钢法兰密封，工件式样在管中加热，加热元件均匀分布于炉管两侧，有效的保证了温场的均匀性。测温采用适用于高温环境的“B"型热电偶，直接和式样接触，以提高控温的精确性。它是专为高等院校﹑科研院所及工矿企业对金属，非金属及其它化和物材料在气氛或真空状态下进行高温烧结﹑融化﹑分析而研制的专用设备。
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1200系列八温区真空管式炉LFT1200C2400D200VIII设备主要适用于中小批量材料在高温条件下热处理，集控制系统与炉膛为一体，保温材料使用高纯氧化铝纤维材料，内嵌式加热式与保温材料一体成型。炉管采用高纯石英管，石英管和金属法兰之前采用橡胶挤压密封，加热丝均匀分布于炉管四周，确保良好的温场均匀性。测温采用性能稳定、长寿命(适于中高温检测)的“K"型热电偶，以提高控温的精确性。
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立式淬火炉 LFT1500C 50D30 OP，炉衬使用真空成型高纯氧化铝聚轻材料，采用硅碳棒为加热元件。该设备设计为立式结构，样品由吊丝固定,真空腔室上端配有电磁铁固定吊丝,可在真空条件下完成淬火工作。其炉管为外径Ф30mm的刚玉管，采用法兰来密封。此设备设计是用于样品高温淬火。样品高温处理后，迅速坠落到冰水中或油中，来研究样品在高温状态下的相变和结构。炉体的控制面板配有智能温度调节仪，控制电源开关、电磁铁旋钮开关、主加热工作/停止按钮，工作状态指示灯，以便随时观察本系统的工作状态。
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煅烧炉，集控制系统与炉膛为一体。炉衬使用真空成型高纯氧化铝聚轻材料，加热元件为优质硅碳棒。石英腔体横穿于炉体中间作为炉管，炉管两端用不锈钢法兰密封，工件式样在腔体内加热，加热元件均匀分布于腔体下侧，有效的保证了温场的均匀性。测温采用适用于高温环境的“S"型热电偶。煅烧炉能够快速开启，快速升降温，方便客户对特殊材料的装载，烧制和观察。炉体的控制面板配有智能温度调节仪，控制电源开关、主加热工作/停止按钮，工作状态指示灯，以便随时观察本系统的工作状态。
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立式高温淬火炉如图所示，集控制系统与炉膛为一体。炉衬使用真空成型高纯氧化铝聚轻材料，采用电阻丝为加热元件，用于催化剂焙烧，方便催化剂装填和转移。石英玻璃管横穿于炉体中间作为炉膛，炉管上端用选用不锈钢法兰密封，下端可用根据用户要求使用橡胶塞隔热，配有不锈钢双层托架，可放置样品。工件式样在管中加热，加热元件与炉管平行，均匀地分布在炉管外，有效的保证了温场的均匀性。测温采用性能稳定、长寿命的“K”型热电偶，直接和式样接触，以提高控温的精确性。
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该石墨烯制备设备双温区滑轨式CVD系统系统由预热炉、双温区滑轨炉、质子流量控制系统、真空系统三部分组成。CVD(化学气象沉积系统)常用于表面材料生长、沉积，是一款实验室常用设备。
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碳纳米膜制备设备，由气体质量流量计控制系统、液体注液系统、多段温度可控多区生长系统、水冷却系统、碳纳米线或膜收集系统，红外烘干系统等组成。生长炉的最高温度1400℃，并可在0-1400℃之间连续可调，垂直式分布热场，三点控温(三段长度平均分配)，设备顶部设有注液口、导流器。炉体采用双层壳体结构并带有风冷系统，保温材料为加厚型，壳体表面温度小于60℃。采用高纯氧化铝管作为炉膛材料，加热元件为优质硅碳棒。本款碳纳米管或膜CVD设备可以实现连续生长不间断的特点。
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新能源锂离子储能系统作为电化学新型储能产业的关键核心部件之一，用户加强其组件和系统运行状态的在线监测，会有效提升新型储能并网安全运行水平德普电气为储能系统量身定制了一套储能预警系统一EWSEnergyStorage Early Warning System)产品，主要用于储能系统的在线监测，具备预防和故障处理两大功能。可实现数据展示、告警联动、整合分析、远程监控、事件查看、统计报表等功能，与其它子系统友好兼容，前置化掌控储能电池簇系统的安全运行状况。利用监测突变、分析数据及传感等手段，实现“安全第一，预防为主”。
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2025年06月06日 ~ 08日 
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