安徽有色金属冶金设备

大口径真空管式炉 LFT1200C 600D200II 749     

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1200℃开启式真空管式炉可通气氛抽真空，设备采用开启式结构，安装拆卸方便。石英管确保在高真空条件下使用。进气端法兰采用折页式法兰设计，避免取放料时的繁琐操作， 炉管工件横穿与进口电阻丝的炉膛，温场均匀，内外温差可控制在5度左右，气动弹簧支撑结构让操作者可各角度安全开启，该款广泛应用在半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、新工艺领域。

纤维连续热处理设备 LFT1200C 1500D100 V RTR 824     

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纤维连续热处理设备​为我司研发用于薄膜材料连续生长专用设备或薄膜材料连续热处理使用，成套系统配有真空系统，气体流量控制系统，可实现多种实验调整，同时具有一定的产能要求。真空腔室内采用动密封，确保系统在真空或气氛保护条件下工作，适用于连续生长等工艺要求。

NXZ型中心传动浓缩机 1644     

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桥架做为主机重量承载部件，液压马达驱动设备运转，格栅装置脱离絮团中游离水，加快矿浆的沉降速度，通过耙架将沉降物料刮集至中心锥坑，由反螺旋搅拌器疏散物料，排出池体。

NZ型中心传动浓密机 1310     

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1、设备应用较为成熟 2、生产范围φ1-φ24 3、手动提耙或电动提耙 4、机械驱动

高效深锥浓缩机 1479     

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1、液压驱动、实现无级变速 2、国外布料技术、处理量大 3、能够自动或手动提耙，保护设备 4、整机PLC控制，自动化程度高 5、设备规格φ3.5-φ35m

烘干机 700     

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用于选矿、建材、冶金、化工等部门烘干一定湿度或粒度的物料。

回转窑 702     

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用于水泥厂煅烧高标号水泥,同时也广泛应用于冶金､化工､建筑等行业｡

湿法超细磨 921     

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应用于化工、电子材料磁性材料、电池材料、非金属矿、新型材料、磨料、陶瓷、医药、食品、涂料等行业的物料超细粉磨。

窑炉 2064     

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窑炉是指用于烧制陶瓷器物和雕塑或是令珐琅熔合到金属器物表面的火炉。一般用砖和石头砌成，根据需要可以制成大小各种的规格，能采用可燃气体、油或电来运转。电窑比使用可燃气体和油的窑更容易控制温度，但是一些陶工和雕塑家认为电窑的温度上升太快。窑炉的膛内温度时采用高温计或测温锥测量的，通过窥孔可以看见。

1700℃ 36L 高温箱式炉 1618     

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保温材料采用真空吸附成型的氧化铝纤维无机材料，环保节能;

实验设备：小型真空管式炉LFT1200C 230D50（管式炉系列） 2136     

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LFT系列迷你管式炉是用于各种材料热处理的实验设备。主要行业有稀土制备、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造等行业进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、CVD实验、物质成分测量等场合

实验设备：区域熔融纯化设备 LFT1200C 100D50（管式炉系列） 1273     

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高温区域熔融升华炉如图所示，炉衬使用真空成型高纯氧化铝聚轻材料，采用电阻丝为加热元件。加热元件与炉管平行，均匀地分布在炉管外，有效的保证了温场的均匀性。

实验设备：双温区真空管式炉(分体式） LFT1200C-II 200D50（管式炉系列） 1356     

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实验设备：双温区真空管式炉(分体式） LFT1200C-II 200D50（管式炉系列）

实验设备：小型立式管式炉LFT1200C-VT 200D60（管式炉系列） 1620     

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小型立式管式炉LFT1200C-VT 200D60（管式炉系列）

实验设备：LFT系列真空管式炉 LF1200C-440D60（管式炉系列） 1293     

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LFT-1200C 400D60单温区开启式真空管式炉采用双层风冷结构，炉体表面温度≤60℃，炉膛采用高纯度氧化铝微晶纤维高温真空吸附成型。。进口加热电阻丝镶嵌延长炉体使用寿命，是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属，非金属及其它化合物进行烧结﹑熔化﹑分析而研制的专用理想设备。

实验设备：LFT系列高温真空回转炉 LFT1200C 900D60IIIR（管式炉系列） 1793     

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实验设备：LFT系列高温真空回转炉 LFT1200C 900D60IIIR（管式炉系列）

实验设备：1400系列真空管式回转炉 LFT1400C 600D60IIIR（管式炉系列） 2052     

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1400系列真空管式回转炉 LFT1400C 600D60IIIR（管式炉系列）

连续进出料回转CVD生长设备 1632     

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该设备炉管可360°旋转，有助于粉料的烧结更均匀，可大角度倾斜，方便进出料，倾斜角度在0-35°之间。

不锈钢真空手套箱 1671     

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VGB系列手套箱由3mm厚度的304优质钢板或镜面不锈钢氩弧焊制而成，双层钢化玻璃及加强筋制成，可在高真空或一定正压环境下使用，内置220V，16A多孔插头，方便使用者在箱体内配用带电仪器，操作室后有KF25接头，可接氧分仪和水分仪工作。

小型滑轨式快速升温炉 1823     

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BTF-1200C-SL小型滑轨式快速升温炉是根据开启式真空管式炉改装而来的，操作时可将实验需要的恒定高温直接推到样品处，使样品能得到一个快速的升温速度，同样也可将高温的管式炉直接推离样品处，使样品直接暴露在室温环境下，得到快速的降温速率。这款设备是专为生长石墨烯而研制的石墨烯生长专用炉，也同样适用于要求升降温速度比较快的CVD实验。

真空高温箱式炉 2270     

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本公司研发生产的ZMF-1700C真空箱式炉系列用于在1600℃下半导体器件、金属材料的热处理和还原 性烧结等工艺，也可用于产品的炭化试验。该炉采用电阻丝加热，PID程序控温仪控制，温控仪可设定30段升温曲线、PID控制参数自整定、并具有断 偶、超温报警保护等功能。炉体采用超轻质高铝纤维材料，具有热容小、温度升降控制灵活、节能等特点，设备可根据真空度的需要分别选用机械泵或真空机组， 非常适合于试验和小批量生产之用。

供气系统3路质子触摸屏控制 2085     

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该供气系统是一种可控制三种气体按不同流量进行混合配比，也可根据实验需求加装洗气装置，质量流量计安装于密封的可移动机柜内，由超洁双抛不锈钢管与精密双卡套接头连接组成。触摸屏控制.

进口高真空机组 1526     

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该系统由原装进口的前级无油泵，后级分子泵，真空传感器和电子控制系统和LED液晶显示组成，此系统是用来抽吸或压缩空气和其它无腐蚀性、不溶于水、不含有固体颗粒的气体，以便在封闭容器中形成真空和压力，吸入气体中允许混有少量液体。

贝意克单温区开启式真空管式炉 2349     

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1200℃开启式真空管式炉不仅可以抽真空,也可以通气体保护。其结构使得拆装炉管方便，操作简捷，使用者可直接将密封腔体移出炉体，加快降温过程，透明石英管腔体可直观的看到样品烧结状态。

热压炉 1587     

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热压方法的最大优点是可以大大降低成形压力和缩短烧结时间，可以制得密度高和晶粒极细的材料，该设备可将压制和烧结两个工序一并完成，可以在较低压力下迅速获得冷压烧结所达不到的密度，从这个意义上说，热压是一种强化烧结。凡是用一般方法能制得的粉末零件，都适于用热压方法制造，尤其适于制造全致密难熔金属及其化合物等材料 。

1400℃真空管式炉 1975     

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1400℃高温管式炉广泛用于:真空或气氛烧结、基片镀膜等要求加热温度较高的实验环境.。该设备技术成熟、质量可靠，温场均匀，结构合理，法兰以卡箍密封，安装拆卸简便快捷，是各大材料实验室必备的理想设备之一。

前端预热双温区CVD设备 1647     

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1200℃开启式真空管式炉不仅可以抽真空,也可以通气体保护。其结构使得拆装炉管方便，操作简捷，使用者可直接将密封腔体移出炉体，加快降温过程，透明石英管腔体可直观的看到样品烧结状态。法兰采用卡箍快捷接头，减去了取放料时的繁琐操作， 炉管工件横穿与上下各6组进口电阻丝的炉膛，温场均匀，内外温差可控制在3度左右，气动弹簧支撑结构让操作者可各角度安全开启。广泛应用在半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、新工艺领域。

前端预热滑轨 1740     

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前端预热滑轨PECVD

双炉滑轨 2180     

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该PECVD(等离子化学气相沉积系统)系统，有多路质量流量计系统(进口流量计)，真空机组(进口真空泵)，PE射频电源(进口射频源)，温控系统等装置构成。使用PE源将气源等离子化，有利于降低工艺温度，同时扩大工艺的使用条件，满足更多的工艺实验要求，如石墨烯、碳纳米管等，控制操作系统集成于触摸屏操作面板上，便于操作与观察。

连续进出料回转CVD生长设备 2228     

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该设备炉管可360°旋转，有助于粉料的烧结更均匀，可大角度倾斜，方便进出料，倾斜角度在0-35°之间。设备组成：加热系统，进料系统，出料系统，气体控制系统，低真空系统，炉管转动系统，电控操作系统。