VIM-HC真空悬浮熔铸炉是在真空条件下将所熔炼的金属或非金属固体炉料,置于感应线圈所形成的高频或中频交变电场中,并利用通水冷却的金属坩埚作为磁场的“聚能器”,使能源磁场能量集中于坩埚容积空间,进而在炉料的表层附近形成强大的涡电流,一方面释放出焦耳热使炉料溶化,另一方面形成洛仑兹力场使熔体悬浮(或半悬浮)和搅拌。由于磁悬浮的作用,使熔体与坩埚内壁脱离接触,这样熔体与坩埚壁之间的散热行为由传导散热改变为辐射散热,从而导致散热速度聚减。使熔体可达到很高的温度,(1500℃—2500℃)宜于熔炼高熔点金属或其合金。
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该设备具备电阻加热和等离子加热双重加热电源,设备可设计成钟罩式和卧式结构,其主要特点是温度可达1100度自由可调实现高温状态的工件离子氮化,提高了炉温均匀性和满足特殊需求的工件氮化,设备除工件摆放外由可编程序控制器实现全自动运行。设备可设计有多路进气口,既可单路充气,又可实现对炉内充入不同的气体,以便实现不同的表面处理工艺。
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