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低硼低磷冶金硅的生产工艺

855   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 14:32:44
本发明涉及涉及一种低硼低磷冶金硅的生产工艺。其技术方案是:选择SiO2>99%、B<10ppmw、P<5ppmw的硅石,破碎粒度至50～120mm,经水洗净,晾干作为原料硅;选择石油焦作为还原剂;复合添加剂按重量百分比为:CaF60～65%∶CaO22～26%∶Na2SiO37～11%,混合均匀;按照复合添加剂∶还原剂∶硅石=1∶4∶10的重量比分别称重,进行混合,投入矿热炉内,在2000℃～2400℃下熔炼4～5.5小时,中间每隔1.5～2小时停止加热,捣炉3次;将矿热炉中非硅物质与熔融的冶金硅液一同排出,注入硅水包内,进行吹氧操作,缓慢增加气压,使液态硅混合物达到沸腾状态即可,持续35～50分钟;经除渣、定向凝固,得到高品质的冶金硅。
声明：
“低硼低磷冶金硅的生产工艺” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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