本发明涉及一种高阻靶材制造方法,属于电子材料与冶金技术领域。用于制备金属膜电阻器所需的靶材。该方法包括原料配比、熔炼、制粉、热压成型和机加工过程。其优点是:所制造的靶材晶粒尺寸细小、大小分布均匀、致密度高、外部无裂纹、内部无孔隙,能够有效提升金属膜电阻器的质量和薄膜沉积速率;本发明方法制造靶材成品率高,易于规模化生产。
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