立式升降式球磨机是实验室、小批量生产用超细研磨、混合设备。该机美观新颖,结构紧凑,操作方便,工作效率高,磨细粒度均匀,是科研、教学、试验、生产的优选设备。可广泛在电子材料、磁性材料、生物医药、陶瓷釉浆
立式升降式球磨机的特点生产效率高。其效率是滚筒球磨机的十倍以上。消耗能源低。立式升降式球磨机的耗电量为滚筒球磨机的1/4,是气流磨的1/13。超细粉磨。立式升降式球磨机能把各种物料(莫氏硬度在2-10
立式升降式球磨机广泛应用于电子、陶瓷、化工、油墨、涂料、化妆品等行业。瑞光公司在生产中开发新技术,可以使该球磨机在一些特定行业比如陶瓷行业的粉料的效率大大降低。从原先需要十几个小时缩短为现在需要3个小
立式球磨机是引进德国公司的立式磨设计和生产制造技术而开发生产的先进磨粉设备,是目前磨粉行业的理想产品。此产品广泛适用于水泥、电力、冶金、化工、非金属矿产业等行业。它具有高效节能烘干能力强,产品粗细度调
无锡吉致电子25年研发生产——铝合金抛光液/铝合金slurry/铝合金悬浮液/铝合金抛光液抛光浆料Slurry/铝合金CMP抛光液/铝合金化学机械抛光液/铝合金lapping研磨抛光液/铝合金化学机械抛光液Slurry/铝合金CMP集成电路抛光液/JEEZ铝合金抛光液
吉致针对碳化硅sic抛光的4道工艺制程搭配不同型号研磨液、抛光液和抛光垫(粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫)。在研磨和抛光应用中提高碳化硅衬底表面质量,同时大大提高材料去除率。
吉致电子陶瓷类抛光液适用于碳化物、氮化物、氧化物和硼化物各精密陶瓷件的镜面抛光,通过CMP抛光工序可得到理想镜面效果,表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。
合金铜CMP抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的铜、合金铜工件的镜面抛光,CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用,可以使铜金属表面得到加工和平整坦化。化学氧化铜金属后磨蚀性去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果,工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。
金属钼片抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的钼、钼合金工件的镜面抛光,抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用,可以使钼金属表面快速去粗和平整坦化。化学氧化腐蚀钼合金表面,研磨去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果,金属钼工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。
产品简介:品牌:晟航应用领域:各种水果,核桃,咖啡豆,花生,大米等食品,化工原料专用磨粉圆柱针轮型主要用于水果,豆类,花生,核桃等高油脂高含水量型农产品。六角针轮型主要用于小麦,大米等高淀粉型高速磨粉