超高温石墨化炉利用真空或惰性气体环境中的中频感应加热。感应线圈产生交变磁场,在石墨坩埚中产生涡流,从而加热并向工件辐射热量,使其达到所需的温度。该炉主要用于碳材料、碳纤维材料和其他复合材料的石墨化和烧结。它由炉体、炉盖、加热传感器、隔热层、电极抽取装置、水循环分配系统、真空系统、温度控制系统等组成。电气系统包括一个 60KVA、IGBT 晶体管中频电源和水冷电缆,配有各种指示仪表和报警功能。控制部分采用 15 英寸触摸屏和可编程控制器 PLC。
电转炉是一种以电为热源的工业炉。它常用于各种材料的煅烧和干燥,包括磷酸铁、磷酸铁锂、锰酸锂、阴极石墨、三氧化钴、阴极硅碳、氢氧化锂、粉末除碳、氧化锌、氧化铁、氧化锰、稀土材料和有色金属。该炉的特点是加热速度快、能效高、经久耐用。它采用镍基合金炉管,可承受高达 1100℃ 的连续工作温度,确保了使用寿命和可靠性。此外,该炉采用优质碳化硅(SiC)加热元件,可延长使用寿命并简化维护。
垂直管式炉是一种实验室设备,用于在受控大气条件下对材料进行高温处理。它由一根垂直方向的石英管组成,石英管封闭在一个加热室内,可以实现精确的温度控制和均匀的热量分布。这些炉子通常用于各种应用,包括热处理、淬火、退火、晶体生长和化学气相沉积(CVD)涂层。立式管式炉具有可编程温度控制器、真空密封功能和用于样品处理的专用附件等先进功能,为材料加工提供了多功能性和精确性。垂直管式炉能够产生可控气氛并达到高温,是研发、材料科学和工业应用领域的重要工具。
氢气气氛炉的结构采用了加热室整体真空密封技术,隔热室和加热元件均内置在一个加强型真空室中,其结构类似于真空手套箱的设计,操作人员可使用真空泵将室内空气吸尽,直至负压为-0.1Mpa,然后将惰性气体涌入室内,以达到良好的可控气氛环境。KT-AH 型氢气气氛炉是一种感应气体气氛炉,可使用氢气进行烧结或退火工艺。氢气炉的绝缘材料为多晶陶瓷纤维,加热元件为高纯度钼丝加热器,炉内装有氢气安全泄漏检测器和排放氢气自动点火装置。
网带式可控气氛炉是一种可在露天和可控气氛环境中工作的连续式生产炉。它主要用于厚膜电路、电阻器、电容器和电感器等电子元件的高温烧结工艺。该炉采用精选陶瓷纤维加热器,反应迅速,温度均匀;采用轻质陶瓷纤维隔热材料,能耗低;采用网带传动系统,传动稳定;采用多独立温度热区控制,调节灵活。它还可选配网带超声波清洗系统和中央计算机控制装置。该炉可进行定制,以满足特定的工艺要求,包括气氛、温度和产量。
KT-PE16 倾斜旋转式 PECVD 炉 PECVD 炉由一个 500W 射频等离子源、一个双区 TF-1200 管式炉、4 个 MFC 气体精确控制单元和一个标准真空站组成。炉子的最高工作温度可达 1600℃。工作温度高达 1600℃,炉管为直径 60mm 的 Al2O2 陶瓷管;4 通道 MFC 质量流量计,气源为 CH4、H2、O2 和 N2;真空站为 1 台 4L/S 旋片真空泵,最大真空压力为 10Pa。
KT-PE12 带液体气化器的滑动 PECVD 系统由一个 500W 射频等离子源、一个 TF-1200 滑动炉、4 个 MFC 气体精确控制单元和一个标准真空站组成。炉腔轨道滑动系统,可实现快速加热和快速冷却,可选配辅助强制空气循环风扇,加快冷却速度;可选配滑动自动工作装置;最高工作温度可达 1200℃。工作温度最高可达 1200℃,炉管为一根直径 60 毫米的石英管;4 通道 MFC 质量流量计,气源为 CH4、H2、O2 和 N2;真空站为一台 4L/S 旋片真空泵,最大真空压力可达 10P。真空压力可达 10Pa。
KT-CTF14 多区 CVD 炉有 2 个加热区,最高工作温度可达 1200℃,炉管为直径 60mm 的石英管;4 通道 MFC 质量流量计,气源为 CH4、H2、O2 和 N2;真空站为 4L/S 旋片真空泵,最大真空压力可达 10Pa。真空压力可达 10Pa。
带真空站的分体式 CVD 管式炉是一款多功能、高性能的实验室设备,专为化学气相沉积 (CVD) 应用而设计。它采用分体式炉腔,便于接触反应样品和快速冷却。炉管由高温石英制成,直径为 60 毫米。该系统包括一个 4 通道 MFC 质量流量计,配有 CH4、H2、O2 和 N2 源气体,可对气体流速进行精确控制。真空站采用 4L/S 旋片真空泵,最大真空压力为 10 Pa。带真空站的分室 CVD 管式炉具有先进的功能和性能,是材料科学、半导体加工和其他领域各种研发应用的理想选择。
分体式多加热区旋转管式炉是一种高配置旋转炉,具有 2-8 个独立的加热区,每个加热区都有自己的热控制器,可实现出色的温度控制。它具有旋转和倾斜功能,可无级调速和调节倾斜角度。该炉可在真空和可控气氛环境下运行,是煅烧、干燥、高温反应、热处理和热解等各种应用的理想之选。它的优点包括温度分布均匀、能效高、热控制精确、用户界面友好以及可定制的设计选项。
真空感应熔炼(Vacuuminduction melting,简称VIM)在电磁感应过程中会产生涡电流,使金属熔化。此制程可用来提炼高纯度的金属及合金。主要包括真空感应炉熔炼、悬浮熔炼和冷坩埚熔炼。由于在真空下熔炼容易将溶于钢和合金中的氮、氢、氧和碳去除到远比常压下冶炼为低的水平,同时对于在熔炼温度下蒸气压比基体金属高的杂质元素(铜、锌、铅、锑、铋、锡和砷等)可通过挥发去除,而合金中需要加入的铝、钛、硼及锆等活性元素的成分易于控制。