HTAF-1700系列箱式气氛炉适用于高校、科研院所、工矿企业做箱式气氛炉应用于适合各类大专院校实验室、工矿企业化验室,供化学分析、物理测定,以及金属、陶瓷的烧结和熔解、小型钢件等加热、焙烧、烘干、热处理用。高温烧结、金属退火、新材料开发、有机物质灰化、质量检测之用,也适用于军工、电子、医药、特种材料等生产和实验。
触摸屏全自动磨抛机是一款高效、智能的金相样品制备设备,采用中心加载力方式,一次性可固定六个样品,完成全部研磨抛光过程,确保磨抛出的各个样品具有完整的平面。设备配备独立控制的磨抛盘和样品盘,可调节转速、磨抛时间、转动方向及水阀关闭等参数。触摸屏界面操作简单,磨抛参数设定方便,状态显示直观。加载力可在运行中调整,灵活方便,且通过电磁阀控制水的通断。磁性防粘盘设计便于更换,可完成从粗磨到精抛的多种工序,一盘多用,提高工作效率。
WQG-500ZAYAXA超大型全自动金相切割机,采用直径500毫米的切割片,是目前切割能力较大的切割机之一。适用于切割各种金属,非金属材料的试样,以便观察材料金相、岩相组织。本机切割过程自动化、噪音低、操作简便,安全可靠,完成满足现代试验室制作大型工件切割要。
自动金相旋转切割机是一款高效、智能化的金相样品制备设备。它采用人机界面和PLC控制,操作界面直观,支持中英文切换,参数设置方便。主轴采用变频控制,具备过载保护功能,确保设备运行安全。设备提供两种切割方式(直接切割和冲击切割),适应不同材料的切割需求。R轴转速手动可调,用户可在500-3000r/min(选配500-5000r/min)之间任意设置,切割直径可达φ60mm,切割速度范围为0.01-3mm/s。此外,设备配备外循环水冷却装置和封闭透明防护罩,确保操作安全。用户可以储存设置参数,方便后续相同材料的切割,无需重新设置。
化学气相沉积系统(CVD)为了使化学反应能在较低的温度下进行,利用了等离子体的活性来促进反应,因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积法(PECVD), 内炉膛表面涂有美国进口的高温氧化铝涂层可以提高设备的加热效率,同时也可以延长仪器的使用寿命。HTTF-1200-V-PECVD多路混气真空管式炉PECVD系统广泛应用于沉积高质量SiO薄膜、Si3N4薄膜、金刚石薄膜、硬质薄膜、光学薄膜和炭纳米管(CNT)等。
双工作台钻攻机T-520-S主要针对3C行业,配有双工位交换工作台,可以实现工件在加工过程中装夹外侧工作台上的工件,使装夹时间与加工同步进行,大大提高了设备的利用率。
PLC独立控制磨抛盘和样品盘:转速、磨抛时间、转动方向、水阀关闭等全部磨抛参数,并自动保存、方便调用;摸屏界面:磨抛参数设定方便,状态显示直观,操作简单。
C-450-3D 三通道高速精雕加工中心应用领域:5G、3C行业,汽车零部件、医疗器械等行业中的小型板零件、盘形零件、壳体类加工。
B-800E-4 四头高速精雕加工中心广泛用于手机前后玻璃盖板开孔及外形加工;以及保护膜片加工;PC、亚克力、PET视窗镜片的切割、倒边。
高温高压管式炉炉管由镍基高温合金制成,可在高温下承受高压炉膛采用高纯氧化铝纤维,最大程度减少能量损失,内炉膛表面涂有美国进口的高温氧化铝涂层可以提高设备的加热效率,同时也可以延长仪器的使用寿命铝制散热器安装于壳体上,托住炉管,并带有风冷系统,可有效降低法兰温度安装了压力传感器与泄压电磁阀,具备过温报警同时也具备过压报警自动卸压功能,以确保设备安全运行可选装温度控制和压力监测软件用于远程控制炉体设计为开启式,以方便更换炉管
本系列升降炉均系周期作业式。设计用于熔化高纯度玻璃、烧结和焙烧陶瓷、磁性材料、电子元件等材料的高温烧结。
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