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DE600CL 多电子枪蒸发镀膜系统配置三（四或六）个电子束蒸发源，可在基片共蒸发金属、半导体或介质材料。
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DE500P 电子束蒸发镀膜系统配置两个电子束蒸发源，可在基片共蒸发沉积金属、半导体或介质材料。
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DE500CL 双电子枪共蒸发镀膜系统配置两个电子束蒸发源，可在基片共蒸发沉积金属、半导体或介质材料，是制备lift-off工艺薄膜和低微材料的理想平台。
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DE400P电子束蒸发镀膜系统配备电子束蒸发源或热阻蒸发源，用于沉积金属或介质薄膜及lift-off工艺薄膜沉积。用于批量生产。
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DE400DUL超高真空电子束蒸发镀膜系统配置一个多坩埚电子束蒸发源，可在基片蒸发沉积金属、半导体或介质材料，是制备lift-off工艺薄膜和低微材料的理想平台。
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特点：用于中试和量产，多个溅射源，可溅射金属、半导体、介质材料及磁性材料，可溅射单层膜、多层膜或共溅合金薄膜或反应溅射。
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DE600DL纳米膜层磁控溅射系统配备多个磁控溅射源，可沉积金属、半导体、介质材料. 可用于溅射多层薄膜、共溅合金薄膜、反应溅射、可选溅射楔形膜等。是材料和薄膜沉积研发和中试的理想平台。
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DE500DL超导量子磁控溅射系统配备多个磁控溅射源，可沉积金属、半导体、介质材料. 可用于溅射多层薄膜、共溅合金薄膜、反应溅射、LIFT-OFF工艺薄膜、隧道结薄膜等。是材料和薄膜沉积研发和中试的理想平台。
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DE500DL纳米膜层磁控溅射系统配备多个磁控溅射源，可沉积金属、半导体、介质材料. 可用于溅射多层薄膜、共溅合金薄膜、反应溅射、可选溅射楔形膜等。是材料和薄膜沉积研发和中试的理想平台。
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DWS250E金刚石线锯是一种立式单向运行的台式线锯。它可处理的工件切割截面为H250xT250mm。金刚石封闭线圈的周长为2米，适配的线圈外径从0.35~0.60mm。线速可从4m/s~12m/s 连续可调。采用重力进给的方式，及保证了进给压力的恒等，也减少了辅助装备带来的额外震动，噪音以及维护和更新的成本压力及麻烦。该线锯可对工件进行干切或湿切的处理。
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ZXQ-1自动镶嵌机是一款用于金相岩相试样制备的设备，主要用于对微小、不易手拿或不规则的试样进行镶嵌处理，以便后续的磨抛操作和在金相显微镜下的观察。该设备能够自动加温、加压，压制成形后自动停机卸压，操作简便，只需按下按钮即可完成样件的自动压制和取出。它适用于热固性材料（如电玉粉、胶木粉等），温度已预先调整并实现自动化控制。ZXQ-1支持多种试样压制规格，包括Φ22mm、Φ30mm和Φ45mm，配备220V、650W的加热器，总电源功率为1000W。其外形尺寸为380×350×420mm，净重50kg，结构稳固，适合实验室和工业
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P-2G型金相抛光机是一款高性能的金相试样抛光设备，专为满足多种材料的抛光需求而设计。它采用直径为Φ203mm的抛盘，标准转速为1400r/min，也可根据用户需求定制900r/min的转速。设备支持220V、50Hz或380V、50Hz的电源选项，适应不同环境的用电需求。其外形尺寸为810×470×980mm，净重75kg，结构稳固，运行平稳。该抛光机具有传动平稳、噪音小、操作维修方便等优点，能够将经过磨光的试样抛光至光亮如镜的表面，适用于金相试样制备过程中的关键工序，是实验室和工业现场的理想选择。
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P-1型金相抛光机是一款专为金属材料金相分析设计的设备，适用于对经磨光后的金属试样进行抛光处理，可获得光亮如镜的金属表面，便于在显微镜下观察与测定金相组织。该抛光机的抛盘直径为Φ200mm，转速为1400r/min，也可根据需求定制900r/min的转速。电源为220V、50Hz或380V、50Hz（定制），外形尺寸为450×390×280mm，净重16kg，结构紧凑，操作简便，适合实验室及工业现场使用。
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立式螺杆罗茨真空泵机组适用于小于等于26OL/S抽速，极限真空大于5Pa的真空获得环境，广泛应用于石油化工、制药、食品、医药中间体、精细化工、农药、光伏电子、环境保护等行业的各种工艺。本系列真空泵能抽出大量二氯甲烷、正己烷、环己烷、丙酮、四氢呋喃、苯、甲苯、汽油、氢气、硅烷、氨气等介质。
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卧式螺杆真空泵真空组适用于小于等于30OL/S抽速，极限真空大于5Pa的真空获得环境，广泛应用于石油化工、制药、食品、精细化工、光伏电子等行业的各种工艺。本系列真空泵能抽出空气、二氯甲烷、正己烷、环己烷、丙酮、四氢味喃、苯、甲苯、汽油、氢气、硅烷、氨气等气体介质。
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专为符合半导体行业的严格要求而设计。该系统采用模块化设计，且可以配置钢丝软轴或硬轴。配合独特的晶体轴配置能够达到最高的精度，因此确保了提拉速度的线性可调和可重复性。
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PulsPlasma® 离子氮化设备是一款用于等离子体扩散工艺的真空炉，它可使零件表面富含氮和/或碳，从而提高耐磨损和耐腐蚀能力。PlaTeG脉冲等离子体®扩散工艺，特别是PulsPlasma®脉冲离子氮化(PPNTM)和PulsPlasma®脉冲离子氮碳共渗(PPNCTM)应用了等离子体扩散方法，相比于传统的氮化工艺(如盐浴软氮化或气体氮化)，它为客户提供了众多优势，而且对环境友好，有助于节约资源。
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COV型真空炉能够在设计、有效空间尺寸、真空和工作温度方面按客户要求定制，此类炉型是双层水冷式炉壳，以及配备由石墨或碳纤维复合材料(CFC)制成的加热元件。
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PVA TePla公司MOV型真空炉是电阻加热热处理炉，加热元件采用钼或钨等难熔金属制成。热量是通过辐射热从加热器直接传输到待处理产品中。MOV炉可完美应用于需要高纯度和无碳炉内气氛的通用热处理工艺，要求苛刻的材料、以及制造及实验室应用。
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YMPZ-2型自动金相试样磨抛机是采用单片机控制的研磨抛光设备，机身采用ABS材料一体成形，外形新颖美观，防腐蚀、经久耐用;牢固的大型支撑底盘设计确保了精密的回转平衡度;磨盘无级调速或四档调速，可切换旋转方向;电机为直流无刷电机，使用寿命长且噪音低，强大的电机扭力带来强大的动力;主轴防漏设计, 确保了几乎不会损坏的轴承;配备冷却水管，可调整旋转方向进行湿磨;配备磨盘底部冲洗功能，防止磨削物累积沉淀;磨盘部分采用磁性设计，支持快速换盘，底盘和垫盘表面经特氟龙处理，无砂纸抛布黏连残留;磨头采用电动锁紧装置，具备定时功
2025年12月26日 ~ 28日 
2025年12月19日 ~ 21日 
2025年12月12日 ~ 14日 
2025年12月05日 ~ 07日 
2025年11月28日 ~ 30日 
