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涂层导体Ni-5at.%W合金基带的电化学抛光方法

1215   编辑:管理员   来源:北方有色网  
2023-03-19 06:55:30
本发明涉及涂层导体Ni-5at.%W合金基带的电化学抛光方法,以Ni-5at.%W合金基带作为阳极,以纯片作为阴极,将Ni-5at.%W合金基带在静态下浸渍于电解抛光液中,开启电源对Ni-5at.%W合金基带进行抛光处理,抛光处理后的合金基带再经去离子水反复冲洗,并用无水乙醇脱水、风机吹干即可,电解抛光液为磷酸、硫酸、乙二醇按体积比为2-4∶3-5∶2-3混合而成的电解抛光液。与现有技术相比,本发明抛光后的合金基带通过原子力显微镜分析,在5×5μm范围内RMS小于1纳米,消除了由RABiTS制备基带产生的晶界沟槽效应,且对原始基带立方织构无影响,满足涂层导体对基带表面平整度的要求。
声明:
“涂层导体Ni-5at.%W合金基带的电化学抛光方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
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