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大面积热丝CVD金刚石薄膜生长装置

801   编辑:管理员   来源:北方有色网  
2023-03-19 08:56:51
本实用新型涉及金刚石膜生长领域,尤其涉及一种大面积热丝化学气相沉积(CVD)金刚石薄膜生长装置。该装置设有密闭的反应腔体,反应腔体内的上部设有气体喷淋环,气体喷淋环通过管路与外部气源连接,反应腔体的外侧设有抽真空系统和真空测控系统;气体喷淋环下方于反应腔体内,平行依次布置热丝、基片、导电层、绝缘层、水冷样品台,基片、导电层、绝缘层叠放于水冷样品台上,水冷样品台通过转轴与外部调速电机相连接。本实用新型可以实现在大面积基片上快速、均匀沉积金刚石薄膜电极,减少反应气体的消耗,沉积过程中能测控热丝的温度、工件表面的温度和反应腔内的压强,能准确控制金刚石薄膜沉积各项主要工艺参数,工艺重复性好。
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“大面积热丝CVD金刚石薄膜生长装置” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
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