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高致密度钼钽合金溅射靶材的制备工艺

868   编辑:管理员   来源:北方有色网  
2023-03-18 14:58:02
本发明提供一种高致密度钼钽合金溅射靶材的制备工艺,该工艺包括如下步骤:S1、钽粉氢化处理;S2、原料混合;S3、胶套装粉作业;S4、冷等静压作业:升压至一定压力后,保压一段时间,然后泄压,最后将压制坯从胶套取出;S5、真空烧结;S6、热轧作业:对钼钽合金进行金属包套轧制,热轧后退火去除应力;S7、进行磨削等机加工作业,得到最终所需产品尺寸。本发明的工艺步骤简单,操作便捷,制备的钼钽合金溅射靶材纯净度、相对密度均满足高端电子产品镀膜领域使用需求,且生产成本低,产品尺寸宽泛,便于工业化批量生产。
声明:
“高致密度钼钽合金溅射靶材的制备工艺” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
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