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基于埋层的垂直结构存储器的制备方法

1042   编辑:管理员   来源:北方有色网  
2023-03-18 15:05:01
本发明公开了一种基于埋层的垂直结构存储器的制备方法。该方法采用填埋下电极和存储功能材料层,不仅可以实现良好的电热绝缘,而且避开了以往制备此类垂直结构器件对化学机械抛光(CMP)的依赖。该方法在电子束曝光、聚焦粒子束刻蚀等高精度线性光刻手段,及高精度的薄膜淀积与刻蚀工艺辅助下,解决了以往研发此类垂直结构由CMP技术的研发瓶颈所导致的研发周期长、难度大、成本高、适用性差的缺点,并在制备精度、制备效率、经济性以及与现有的CMOS工艺兼容性等方面具有很大的优越性。
声明:
“基于埋层的垂直结构存储器的制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
         
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