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REBCO超导厚膜的制备方法

167 编辑：中冶有色网来源：甚磁科技（上海）有限公司

2025-11-10 16:42:05

权利要求 1.一种REBCO超导厚膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：使用超导层沉积方法在基带上沉积REBCO层，然后沉积辅助抛光层，接着加入清洗液进行旋转抛光，得到表面平整的REBCO层，之后在表面平整的REBCO层上重复沉积REBCO层、沉积辅助抛光层和旋转抛光的步骤，得到所述REBCO超导厚膜。 2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，每次沉积REBCO层的厚度为500~1000nm; 和/或，所述REBCO超导厚膜的厚度≥4μm。 3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述辅助抛光层的厚度为2~10nm; 和/或，所述辅助抛光层呈非晶或纳米晶形态; 和/或，所述辅助抛光层的沉积温度为室温。 4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述辅助抛光层的材料包括CeO2或Al2O3。 5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述旋转抛光具体包括：将辅助抛光层朝向抛光布，并施加0.1~5N的力进行旋转抛光至表面均方根粗糙度<10nm，旋转抛光过程中使用清洗液; 和/或，所述旋转抛光的转速为50~200rpm，时间为1~5min; 和/或，所述清洗液包括乙醇、乙二醇或丙二醇; 和/或，所述抛光布选自丝绸抛光布、羊绒抛光布、真丝绒抛光布或植绒抛光布。 6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述超导层沉积方法包括脉冲激光沉积方法、金属有机化学气相沉积方法、反应电子束共蒸发-沉积反应方法或金属有机盐分解方法。 7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述REBCO层包括掺杂或无掺杂的REBa2Cu3O7-δ层; 所述掺杂的成分包括BaMO3、Ba2(RE,Y)NO6、SiO2、BaCuO2或稀土氧化物RE2O3非超导相; 其中，M选自Zr、Hf、Sn和Ce中的一种或几种; RE选自稀土元素中的一种或几种; N选自Nb和/或Ta; 和/或，所述稀土元素为Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb和Lu。

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“REBCO超导厚膜的制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。

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