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制备MoO2 粉末的方法、由MoO2粉末制备的产品、MoO2薄膜的沉积以及使用这种材料的方法

628   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 15:00:02
本发明涉及在旋转或舟形炉中，通过使用氢作为 还原剂，还原钼酸铵或三氧化钼得到的高纯 MoO2粉末。将通过压制/烧结、 热压和/或HIP进行的粉末固结用来制备圆盘、厚块或板，该 圆盘、厚块或板用作溅射靶。使用适宜的溅射方法或其它物理 方式将该MoO2圆盘、厚块或板 形式溅射在基底上，从而提供具有期望膜厚的薄膜。就透射率、 导电率、功函数、均匀性以及表面糙度而言，该薄膜具有与氧 化铟锡(ITO)和掺锌ITO可比或优于其的性能如电的、光的、 表面粗糙度以及均匀性。可将该 MoO2和含该 MoO2的薄膜用在有机发光二极 管(OLED)、液晶显示器(LCD)、等离子体显示板(PDP)、场致 发射显示器(FED)、薄膜太阳能电池、低电阻率欧姆接触以及 其它电子和半导体器件中。
声明：
“制备MoO2 粉末的方法、由MoO2粉末制备的产品、MoO2薄膜的沉积以及使用这种材料的方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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