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覆铜陶瓷基板的活性金属层的蚀刻液及其刻蚀方法

1037   编辑:管理员   来源:北方有色网  
2023-03-18 15:02:02
本发明公开了一种覆陶瓷基板的活性金属层的蚀刻液及其刻蚀方法。一种陶瓷覆铜基板的活性金属反应层的蚀刻液,由以下质量百分比的组分组成;5%‑15%H2O2、3%‑5%NaOH、1%‑3%M、3%‑5%N,余量为纯水;M为羟基乙叉二膦酸、氨基三甲叉膦酸、乙二胺四甲叉膦酸、乙二胺四甲叉膦酸钠、2‑膦酸丁烷‑1,2,4三羧酸、二乙烯三胺五甲叉膦酸、2‑羟基膦酰基乙酸、硫酸镁或硫酸镁的水合盐中的至少一种。上述蚀刻液针对于无银工艺焊料的含钛、铪、锆等活性金属与陶瓷形成的活性金属反应层,具备高针对性,溶液稳定性高、对温度不敏感、蚀刻效率高。
声明:
“覆铜陶瓷基板的活性金属层的蚀刻液及其刻蚀方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
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