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大尺寸CuI晶体的生长方法

805   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 15:03:02
本发明提供了一种CuI晶体的生长方法，属于光电功能材料技术中的晶体生长领域。该方法采用低温水溶液降温法生长晶体，使用NH4Cl、NH4Br、NH4I等为助溶剂，铜片作为还原剂，石蜡油封，生长温区30-60℃，降温速率为0.1-0.5℃/day。本发明采用的降温法晶体生长技术具有生长温度低、溶液黏度低、装置简单易行、生长过程可以直接观察等优点，所生长的CuI晶体纯度高、均匀性好、尺寸大，因此作为新一代的超快闪烁晶体，有望在未来超高计数率电子、γ射线和X射线测量中发挥重要作用，同时还作为一种半导体材料用作太阳能电池材料、超导材料和光催化材料。
声明：
“大尺寸CuI晶体的生长方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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