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压力控制系统和等离子体沉积设备

1079   编辑:管理员   来源:北方有色网  
2023-03-19 08:57:05
本实用新型涉及等离子化学气相沉积技术领域,公开了压力控制系统及应用了该压力控制系统的等离子体沉积设备。其中,压力控制系统包括:与真空腔体通过真空管道连接的真空泵,真空管道上设置有电控制阀门;用于测量真空腔体的真空度的真空计,真空计和电控制阀门通过可编程序控制器通信连接。本实用新型所提供的压力控制系统能够自发调节真空腔体内的压力,使得气压保持在一定范围内。
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“压力控制系统和等离子体沉积设备” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
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