权利要求
1.一种BC电池的制备工艺，其特征在于，包括以下步骤：
S1、以光诱导工艺，在N电极表面制备第一金属层;
S2、以真空沉积工艺，在电池片背面依次沉积第二金属层、阻障层和种子层;所述第二金属层的材料和所述第一金属层的材料不同;
S3、对电池片背面进行图形化工艺，露出待电镀区域;
S4、在待电镀区域通过电镀工艺制备金属栅线;
S5、去除掩膜层、种子层、阻障层及第二金属层。
2.根据权利要求1所述的BC电池的制备工艺，其特征在于，S1中，第一金属层的材料为金属镍，第一金属层和N电极形成欧姆接触。
3.根据权利要求1所述的BC电池的制备工艺，其特征在于，S1中，光诱导工艺操作过程为：将已具备P/N电极的电池片载入光诱导电镀设备内，使得在N电极上沉积厚度范围为0.01~5um的第一金属层。
4.根据权利要求3所述的BC电池的制备工艺，其特征在于，S1中，电镀液中包括镍和硼酸，镍的浓度为50-150g/L，硼酸的浓度为25-80g/L;电镀液温度为25℃~65℃。
5.根据权利要求1-4任一项所述的BC电池的制备工艺，其特征在于，S1中，光诱导工艺时间为30~300秒，光波长范围为200~600nm，光强度范围为20~70mW/cm2。
6.根据权利要求1所述的BC电池的制备工艺，其特征在于，S2中，第二金属层的材料为金属铝，第二金属层的厚度为5~200nm。
7.根据权利要求1所述的BC电池的制备工艺，其特征在于，S2中，阻障层的厚度为5~200nm，阻障层的材料选自金属钛、金属钨或是其合金中的任一种或多种。
8.根据权利要求1所述的BC电池的制备工艺，其特征在于，S2中，底种子层的厚度为10~300nm，底种子层的材料选自金属铜、金属铋、金属金、金属银或是其合金中的任一种或多种。
9.根据权利要求1所述的BC电池的制备工艺，其特征在于，S2中，真空沉积工艺的功率为1~10KW，时间30~300秒。
10.根据权利要求1所述的BC电池的制备工艺，其特征在于，S4、电镀制备铜金属栅线，铜金属栅线的厚度为5~50um，在铜金属栅线的表面进行锡保护层电镀沉积工艺，
声明：
“BC电池的制备工艺” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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编辑：中冶有色网
来源：苏州捷得宝机电设备有限公司
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2025年05月09日 ~ 11日 
