本发明公开了一种Al2O3包覆δ‑MnO2纳米片阵列复合材料及其制备方法。所述方法按KMnO4与KF的摩尔比为1:2~6,将KMnO4溶液和KF溶液混合,用稀H2SO4调节pH至1~3,加入基底材料,于100℃~140℃下进行水热反应制得δ‑MnO2纳米片阵列,然后在80℃~300℃下,以三甲基铝和水为前驱体通过原子层沉积在δ‑MnO2纳米片上沉积AI2O3薄膜,得到Al2O3包覆δ‑MnO2纳米片阵列复合材料。本发明在不破坏材料原有结构的基础上,在材料表面沉积几个纳米厚度的保护层,提高离子传输能力的同时抑制了水解,使得材料的电位窗口得以扩宽,并因此提高了可逆容量,倍率性能以及循环稳定性。
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