本发明公开了一种具有可调缺陷密度的硫掺杂氮化碳改性氧化钼复合光催化材料及其制备方法。所述复合光催化材料以氧化钼为主体材料,硫掺杂氮化碳作为修饰材料,其中氧化钼与硫掺杂氮化碳的质量比为10:0.5~3。本发明所提供的复合光催化材料可通过调节复合材料中硫掺杂氮化碳与氧化钼的比例,实现表面缺陷密度的可控调节,从而保证复合材料中保留适当的氧空缺。同时形成的界面共价Mo(δ+)‑N(δ‑)化学键,可以作为异质结界面电荷转移通道,进一步加速电荷的迁移,实现优异的光催化性能。本发明制备方法具有反应条件温和、工艺流程简单、操作条件易控、原料简单易得、绿色环保等优点,适合于大规模制备。
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