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超高真空多腔室物理气相沉积系统（PVD）是一款专为薄膜半导体材料制备设计的高端设备。它由全球领先的沉积设备制造商生产，具备多种沉积方式，包括磁控溅射、电子束蒸发和热蒸发，且预留了多种功能接口，高度灵活，非常适合科研用途。该系统在机械泵和分子泵的配合下，极限真空可达5×10⁻¹⁰ Torr（经过24小时烘烤冷却后），镀膜均匀度小于3%。它支持多种样品尺寸（1”至12”），配备石英晶体微天平和椭偏仪进行膜厚监控，样品台可旋转、加热并加载偏压。
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PVD公司生产的超高真空磁控溅射系统是一款专为薄膜半导体材料制备设计的高性能设备，支持最大300mm衬底，具备RF、DC和脉冲DC等多种溅射技术，靶材尺寸从1英寸到8英寸可选。系统配备可加热至850°C的衬底支架、高真空腔体（304不锈钢材质）、分子泵或冷凝泵真空系统，以及QCM膜厚监控和RGA残余气体分析等原位监控功能。此外，还可根据客户需求扩展RHEED、椭偏仪等功能，广泛适用于半导体薄膜的研发与生产。
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纳米颗粒和薄膜的模块化PVD系统 是一种多功能的 PVD 系统，能够生成纳米颗粒和薄膜，非常适合工业和学术研究。NL-FLEX 能够容纳任何类型的基材，包括卷对卷、非平面和粉末涂料。服务于广泛的应用，包括催化、光子学、储能、传感器和生命科学。这种模块化 PVD 沉积系统可以与分析工具集成，为您的研究需求提供完全定制的解决方案。
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纳米颗粒和薄膜UHV沉积系统是一种超高真空 PVD 系统，能够产生纳米颗粒和薄膜，非常适合工业和学术研究。 服务于广泛的应用，包括催化、光子学、储能、传感器和生命科学。该UHV 沉积系统可以与分析工具集成，为您的研究需求提供完全定制的解决方案。
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该系统是一种台式真空系统，可将超纯非团聚纳米颗粒直接沉积到直径达 50 毫米的任何表面上。专为共享研究或教学实验室而设计，学生和研究人员可以在各种纳米技术项目中并行使用，而不必担心交叉污染。应用包括催化、光子学、储能、传感器和生命科学。
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这是一款美国原产的高性能脉冲激光沉积系统（PLD），用于制备高质量薄膜和研发新材料。系统通过高密度脉冲激光照射靶材，形成等离子体并沉积到对面的基板上，可获得热力学准稳定状态的薄膜。设备配备6个1-2英寸靶位，可自动旋转并由步进电机控制靶材选择；基板采用2英寸铂金加热片，加热温度可达1200℃，温差小于3%，可在氧气环境中旋转工作。成膜室和样品搬运室均为SUS304材质，本底真空度分别小于5×10⁻⁸ Pa和5×10⁻⁵ Pa，配备分子泵和机械泵，以及超高真空阀门和真空计。
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PVD公司生产的脉冲激光沉积分子束外延系统（PLD MBE）凭借其优异性能，在国内外拥有众多用户，广泛应用于薄膜外延制备。作为美国主要制造商，PVD专注于设计和制造超高真空薄膜沉积系统，涵盖分子束外延、UHV溅射和脉冲激光沉积等领域。其产品主要面向小型研发系统，适用于多种材料的外延生长，如半导体材料、ZnO、GaN、SiGe、金属/氧化物、磁性薄膜、超导薄膜、氧化物和陶瓷材料等。系统配置包括主腔室、样品传输腔、1100度加热系统、样品旋转、PLD靶材操控器及光路、K-cell热蒸发源、电子束蒸发源和射频RF离子源等。
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这是一款高性能的磁控溅射仪，适用于4英寸和6英寸衬底，具备4个靶位，靶材尺寸为3英寸，可溅射磁性材料。设备极限真空度低于6.6×10⁻⁶ Pa，膜厚均匀性控制在±5%以内。靶与样品距离可调，并可在30度内摆头。配备load-lock系统，可放置5片6英寸样品，电动马达在高真空状态下顺序传送并溅射样品。样品台可加热至750℃并支持旋转，配备全自动真空控制模块。气路支持Ar、O₂、N₂，提供2个600W射频电源和2个1000W直流电源，满足多种薄膜制备需求。
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昆泰重工 GZ4220金属 双立柱转角卧式：1.锯床按有报警功能.2.锯条断裂时,锯床报警,自动停机.3.锯床按有暂停功能,比如你下料时锯到一半时想停一下,可以按暂停键,想启动时再按一下暂停键,锯床还会接着上一组数据接着工作,不会回零重新锯切.
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本机床为数控床身，具有较强的承载能力，三方向导轨均为淬火硬轨，导轨宽、跨距大，结构及外形尺寸紧凑合理，主轴为变频电机通过同步带驱动。可铣削、钻孔、扩孔及铰孔等多种功能，能够实现对盘类、板类、壳体、模具等复杂、高精度零件的加工，适于多品种各中、小型零件的平面、斜面、沟槽、孔等多种工序加工，是机械、电子、仪器、仪表、模具、汽车等行业的理想加工设备;可选配第四轴，选配第四轴可实现四轴四联动，电机功率为0.75kW(2.4 N.m)分度头型号为FK15125, 扩大了机床的加工范围。
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XK6036卧式的主要特点：是一款经济型数控卧式，机床三轴联动，数控系统采用国产通用型数控系统，兼容发那科，广数，凯恩帝等系统G代码。机床主轴配置大功率电机，全部齿轮传动，扭矩大。进给轴电机配置高扭矩伺服电机，扭矩大，运行速度快。
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XK6132自动铣削斜面沟槽设备是一种用途广泛的机床，在上可以加工平面(水平面、垂直面)、沟槽(键槽、T形槽、燕尾槽等)、分齿零件(齿轮、花键轴、链轮)、螺旋形表面(螺纹、螺旋槽)及各种曲面。此外，还可用于对回转体表面、内孔加工及进行切断工作等。在工作时，工件装在工作台上或分度头等附件上，铣刀旋转为主运动，辅以工作台或铣头的进给运动，工件即可获得所需的加工表面。由于是多刃断续切削，因而的生产率较高。简单来说，可以对工件进行铣削、钻削和镗孔加工的机床。
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C6140 主轴孔经52mm金属机的主要组成部件有：主轴箱、进给箱、溜板箱、刀架、尾架、光杠、丝杠和床身。●主轴箱：又称床头箱，它的主要任务是将主电机传来的旋转运动经过一系列的变速机构使主轴得到所需的正反两种转向的不同转速，同时主轴箱分出部分动力将运动传给进给箱。主轴箱中等主轴是车床的关键零件。主轴在轴承上运转的平稳性直接影响工件的加工质量，一旦主轴的旋转精度降低，则机床的使用价值就会降低。
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GB4250双柱龙门卧式金属系列，主要用于锯切各种黑色金属、有色金属。具有锯口窄、省料、节能、锯削精度高、操作方便、生产x率高优点。
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CK6150卧式金属切削机经济型：该系列产品采用卧式平床身整体铸件结构，床身、床头、床鞍、床腿等基础件均采用树脂砂铸造，人工时效处理，整体稳定性好;床身导轨超音频淬火，床鞍及滑板导轨结合面采用“贴塑"处理，移动部件可实现微量进给，防止爬行;进给系统采用伺服电机、精密滚珠丝杠、高刚性精密复合轴承结构，定位准确、传动效率高;主轴转速高，调速范围宽、整机噪音低。
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VMC855加工中心切削力度强全防护：1、底座、滑座、工作台、立柱、主轴箱等主要基础件采用高刚性的铸铁结构，在底座的内部分布着筋，滑座为箱体式结构，了基础件的高刚性和抗弯减震性能，立柱采用柱形结构，基础稳固，刚性好;基础件采用树脂砂造型并经过时效处理，确保机床长期使用精度的稳定性，为机床性能的稳定性提供了保障。
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cw6180是能对轴、盘、环等多种类型工件进行多种工序加工的卧式车床，常用于加工工件的内外回转表面、端面和各种内外螺纹，采用相应的刀具和附件，还可进行钻孔、扩孔、攻丝和滚花等。是车床中应用的一种，约占车床类总数的65%，因其主轴以水平方式放置故称为卧式车床CW9180具有用途，主要用于各种回转体零件的外园、内孔、端面、锥度、切槽及公制螺纹、径节螺纹等的车削加工，此外还可以用来进行钻孔、铰孔、套料、扩孔、滚花、拉油槽等加工。CW还适合于使用硬质合金刀具对各种黑色金属和有色金属进行切削和高速切削;性能好，操纵方便。
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C6140是能对轴、盘、环等多种类型工件进行多种工序加工的卧式车床，常用于加工工件的内外回转表面、端面和各种内外螺纹，采用相应的刀具和附件，还可进行钻孔、扩孔、攻丝和滚花等。是车床中应用泛的一种，约占车床类总数的65%，因其主轴以水平方式放置故称为卧式车床.
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VMC1160/1060立式加工中心机床结构及外形优化设计，紧凑合理、刚性。能够实现对各种盘类、板类、壳体、凸轮、模具等复杂零件的加工，可完成钻、铣、攻丝等多种工序，适合于批量产品的生产，能满足对中小型工件的钻、攻、铣工序的加工。
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ck6163卧式高频淬火大孔径重型的主要用途及特点，主要用于加工各种轴类、盘类零件，可以车削各种螺纹、圆弧、圆锥及回转体的内外曲面，能够满足黑色金属及有色金属高速切屑的速度需求。适合汽车、摩托车、电子、航天、等行业对转体类零件进行高效、大批量、的加工。
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