1.本发明涉及废水处理工艺技术领域，尤其涉及一种适用于集成电路、液晶面板等电子设备制造领域、且废水中含有四甲基氢氧化铵(tmah)的废水处理系统及方法。
背景技术：
2.四甲基氢氧化铵在集成电路、液晶面板、印制电路板等电子行业中广泛用作显影剂。tmah废水具有强碱性，是有毒性的含氮有机废水。
3.现有技术中，授权公告号为cn113501621a，名称为《一种显影液废水处理系统》的中国发明专利公开了一种系统，该系统主要由厌氧微生物分解反应池和膜分离池组成；授权公告号为cn111285547a，名称为《一种显影液废液处理方法》的中国发明专利公开了一种系统，该系统主要由ph调节、混凝沉淀、浓度调配、厌氧生化、氨吹脱与酸吸收等单元组成。由于tmah有毒性，微生物很难对其进行降解，因此该方案不能降解tmah废水。
4.授权公告号为cn20790417u，名称为《一种tmah废液处理系统》的中国实用新型专利公开了一种系统，该系统按照工艺流程依次包括气浮装置、铁碳微电子装置、芬顿氧化装置、ph调节装置、a2o-mbr装置等处理单元进行废液处理。经过仔细分析，现有技术公开的该种系统具有以下缺陷：
5.1、工艺流程处理单元过多，系统过于复杂，处理成本较高；
6.2、芬顿氧化系统要投加大量的铁盐，会产生大量污泥，工艺流程占地面积大；
7.3、铁碳微电子工艺要投加大量的硫酸亚铁，处理后的水中铁离子含量超标；
8.4、铁碳微电子装置反应时间长，处理效率低。
9.现有技术处理该废水通常是将tmah废水和其他有机废水混合，采用生化法进行处理，由于tmah有毒性，微生物很难对其进行降解，因此现有的技术方案不能降解tmah废水，处理后的尾水中仍然会含有tmah，会增加环境污染，危害人体健康。
10.因此，针对上述技术问题，本领域的技术人员亟需研发一种对tmah废水降解效率高、系统构成简单、反应时间短、占地面积小、对环境无二次污染、且便于工业化大规模推广和应用的处理方法。
11.紫外线高级氧化技术一般是通过紫外线uv活化水中氧化剂产生自由基，将水中化学性质稳定的有机物最终矿化为co2、h2o及其它无机小分子物质，或将难降解的有机物氧化为易生物降解的小分子有机物。其中常见的氧化剂有双氧水h2o2、臭氧o3、过单硫酸盐pms(hso
5-)、次氯酸钠naclo和氯胺nh2cl等。
声明：
“含有四甲基氢氧化铵的废水处理系统及方法与流程” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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编辑：中冶有色网
来源：世源科技工程有限公司
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2025年05月16日 ~ 18日 
