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高强度改性PBAT光催化抗菌薄膜及其制法

916   编辑:管理员   来源:北方有色网  
2023-03-18 17:02:46
本发明涉及光催化抗菌材料技术领域,且公开了一种高强度改性PBAT光催化抗菌薄膜,包括以下配方原料及组分:WO3‑Ag3PO4‑TiO2‑蒙脱土复合材料硅烷偶联剂、低密度聚乙烯、聚己二酸/对苯二甲酸丁二酯、抗氧化剂。该一种高强度改性PBAT光催化抗菌薄膜,在有机蒙脱土表面生成纳米TiO2,有效减少纳米TiO2团聚和聚集,Fe掺杂WO3和Ag3PO4共同修饰纳米TiO2,Fe掺杂增强了WO3在可见光吸收波段的光化学活性,TiO2光辐射下价带上产生空穴与羟基基团或者水分子,生成羟基自由基,WO3导带产生的光生电子与氧气反应生产超氧自由基,破坏了微生物的生长和繁殖,聚乙烯包覆住WO3‑Ag3PO4‑TiO2‑蒙脱土复合材料,使WO3‑Ag3PO4‑TiO2‑蒙脱土复合材料均匀分散在聚己二酸/对苯二甲酸丁二酯中。
声明:
“高强度改性PBAT光催化抗菌薄膜及其制法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
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