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基于金属硬掩模的铌酸锂薄膜光子芯片及其加工方法

1044   编辑:管理员   来源:北方有色网  
2023-03-18 21:06:32
本发明提供一种基于金属硬掩模的铌酸薄膜光子芯片及其加工方法,该方法包括:S1,利用真空磁控溅射技术在铌酸锂薄膜表面沉积一层金属铬层;S2,在所述金属铬层上旋涂一层电子束抗蚀剂,通过电子束直写光刻将待加工的图案转移到所述电子束抗蚀剂上;S3,采用基于氯气的金属刻蚀工艺刻蚀所述金属铬层,形成金属硬掩模;S4,在所述金属硬掩模和电子束抗蚀剂双重保护下,通过反应离子刻蚀所述铌酸锂薄膜,实现微米量级光子芯片的加工。本发明具有加工精度高、刻蚀选择比高、结构深宽比好、结构表面污染水平低等优势,可用于铌酸锂薄膜上高精度、高光滑度的脊形波导、微环谐振腔等光子芯片的制造。
声明:
“基于金属硬掩模的铌酸锂薄膜光子芯片及其加工方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
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