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高延伸高抗拉添加剂及其制备方法和使用方法

926   编辑:管理员   来源:北方有色网  
2023-03-19 00:23:44
本发明涉及一种高延伸高抗拉添加剂及其制备方法和使用方法,属于电解箔技术领域。本发明以含硫基团的化合物作为光亮剂,它能够形成亚铜配合物并吸附在铜沉积位点上,起催化促进沉积,从而在一定浓度内降低铜箔粗糙度,增大抗拉强度和延伸率;高抗剂中胺类有机物的存在可以促进阳离子在活性位点吸附,不饱和键增强吸附,增大阴极极化,从而使得在有对流的情况下,减小表面微观轮廓起伏,降低表面粗糙度,增大抗拉强度和延伸率;硫脲类衍生物也具有促进沉积的效果,降低铜箔表面粗糙度,增大抗拉强度和延伸率。
声明:
“高延伸高抗拉添加剂及其制备方法和使用方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
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